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加州大學發(fā)現(xiàn)二硫化鉬晶體管抗高溫特性
發(fā)布者:管理員 發(fā)布時間:2015-03-03 09:56:46 瀏覽次數(shù):1817

需要抗高溫電子器件的應(yīng)用數(shù)量不斷增長,渦輪機和井下傳感等應(yīng)用都需要能在200℃以上溫度工作的電子器件。

加州大學河濱分校和倫斯勒理工學院的研究人員發(fā)現(xiàn)二硫化鉬薄膜晶體管可用于此類極端溫度應(yīng)用場合。

加大河濱分校教授亞歷山大·巴蘭丁表示:研究表明二硫化鉬薄膜晶體管至少在220℃還能保持功能。在經(jīng)過兩個月的老化之后,這種晶體管仍然能夠穩(wěn)定工作。

利用標準光刻技術(shù),巴蘭丁教授的研究團隊在硅襯底上構(gòu)建出二硫化鉬晶體管。巴蘭丁教授指出:一些晶體管只有幾層,而其他晶體管則多至18層。薄膜越厚,晶體管的熱穩(wěn)定性越強,在高溫下表現(xiàn)出更高的電子遷移率。

通過直流測量,研究人員研究了二硫化鉬晶體管在26℃~223℃之間的電流電壓特性或功能特性。他們發(fā)現(xiàn)晶體管的性能不同,但當溫度上升時仍然保持功能。

巴蘭丁表示:遷移率和門限電壓隨著溫度而降低。單層二硫化鉬的帶隙為1.9電子伏特,比硅和砷化鎵的要大,這對于高溫應(yīng)用是有益的。(來源:慧聰網(wǎng))

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